tzxnef就是用getter。在一定温度下，吸气剂可以吸收氮气、氢气、氧气、一氧化碳、二氧化碳、甲烷等气体。经吸收处理后，氩气纯度可达6.9%。这种保护气体更适合制作高纯度半导体单晶硅。
通过吸气剂净化的氩气纯度:
氧气≤0.2ppm
H2≤0.5ppm
N2≤1ppm
一氧化碳+二氧化碳≤0.5ppm
CH4≤0.5ppm
水分≤1ppm
一种方法设备投资少，脱氧剂在设备中的使用寿命一般在四年以上。
清洁表面。
在清洗晶圆、玻璃等产品表面颗粒的过程中，通常采用等离子体轰击材料表面的颗粒，使颗粒分散疏松，然后进行离心清洗等处理过程，会产生显著的效果。这在半导体封装应用中尤为突出。为了防止引线键合过程后引线的氧化，应使用氩等离子体或氩氢等离子体清洗产品表面，以达到更好的产品处理效果。
氩气泄漏的处理措施。
迅速将泄漏污染区的人员撤离至上风处，并进行隔离，严格限制出入。建议应急响应人员穿戴自给式正压呼吸器和普通工作服。尽可能切断泄漏源。合理通风，加速扩散。泄漏的容器应在使用前进行适当的处理、修理和检查。